فناوری آماده سازی نانولوله های کربن تک دیوار

فناوری آماده سازی نانولوله های کربن تک دیوار

روش تخلیه قوس
تخلیه قوس یک فناوری مهم برای تحقق زودرس سنتز نانولوله های کربن تک دیواره. در یک محیط گاز بی اثر است ، این روش شامل تبخیر الکترود گرافیت با یک قوس با ولتاژ بالا و رسوبات بخار کربن حاصل از آن است که از سطح کاتالیزور استفاده می کند. جدا کردن نانولوله های کربن با خلوص بالا همیشه یک مشکل بوده است. 5 {5}

روش رسوب بخار شیمیایی
Chemical vapor deposition (CVD) is currently the dominant method for industrial production of single-walled carbon nanotubes. It uses carbon sources such as methane or ethylene. At high temperatures, with the aid of a catalyst, the carbon sources are decomposed and deposited to synthesize SWCNTs. Compared with arc discharge method, CVD has high عملکرد و خلوص محصول خوب ، اما با چالش های بازیابی کاتالیزور و هزینه بالا.

روش تبخیر لیزر
The laser evaporation method generates single-walled carbon nanotubes by bombarding a graphite target containing a catalyst with high-energy laser pulses. This method can prepare SWCNTs of extremely high purity, with a purity of 70% to 90%. However, due to the complex equipment and high cost, it limits the possibility of large-scale industrial برنامه.}

روش گازسوز فاز جامد با دمای پایین
فرآیند سنتز نانولوله های کربن توسط تجزیه و تحلیل فاز جامد با دمای پایین پایدار و مناسب برای تولید در مقیاس آزمایشگاهی است {3 {3} این روش به یک کاتالیزور احتیاج ندارد ، اما به مواد اولیه با خلوص بالا احتیاج دارد و در حال حاضر دستیابی به تولید در مقیاس بزرگ.}} دشوار است.

قسمت زیست پزشکی .